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电镀旋转头本发明提供了一种晶圆电镀设备，包括阳极腔、阴极腔和离子膜，所述离子膜位于所述阳极腔和所述阴极腔之间，所述阳极腔用于装载阳极液，所述阳极腔包括阳极和至少一个自旋转搅拌装置，所述阳极设置在所述阳极腔的底部，所述至少一个自旋转搅拌装置设置在所述阳极的上方，每个所述自好了吧！

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