真空电镀和水电镀有什么区别

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为了解决真空溅射法和化学诱导沉积法生产投资高、电镀法工艺控制困难的问题。一种埋电阻铜箔的制备方法，包括对基底铜箔进行脱氧、电镀电阻层、清洗、干燥；上述埋阻铜箔的电阻测试方法包括：电阻层与支撑层的粘接固化、蚀刻、清洗烘烤、测试电阻；本发明采用铜箔电镀工艺？

本发明公开了一种避免间隙泛酸的电镀后处理工艺，包括以下步骤：清洗，工件电镀后，用普通电镀钝化水清洗，然后用清水清洗至少两次；吹水，清洗完毕后取出工件，用压缩空气吹干产品表面残留水分；真空干燥将工件放入真空箱内加热干燥。以上工艺步骤共同作用，有效解决了镀后接缝问题。

非均匀溅射镀膜及电镀加厚五步。该装置主要包括缠绕系统、张紧系统、钻孔装置、离子源处理模块、溅射处理模块和位于真空室内的外部电镀增厚模块。本发明采用薄膜钻孔和非均匀溅射相结合的技术，将聚合物薄膜两面的铜层有效导电，然后采用成熟的电镀加厚技术，对吗？

据金融界消息，3月20日，有投资者在互动平台向龙阳电子提问：秘书长您好！公司业务与PET铜箔有何关系？公司回复：公司复合铜箔采用两步法（磁控溅射+水镀）技术路线。公司深耕电磁屏蔽材料20余年，对PET、PP等高分子材料的金属化处理有着深入的了解。真空磁控溅射中的小毛猫。

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